Заглавная страница Избранные статьи Случайная статья Познавательные статьи Новые добавления Обратная связь FAQ Написать работу КАТЕГОРИИ: АрхеологияБиология Генетика География Информатика История Логика Маркетинг Математика Менеджмент Механика Педагогика Религия Социология Технологии Физика Философия Финансы Химия Экология ТОП 10 на сайте Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрацииТехника нижней прямой подачи мяча. Франко-прусская война (причины и последствия) Организация работы процедурного кабинета Смысловое и механическое запоминание, их место и роль в усвоении знаний Коммуникативные барьеры и пути их преодоления Обработка изделий медицинского назначения многократного применения Образцы текста публицистического стиля Четыре типа изменения баланса Задачи с ответами для Всероссийской олимпиады по праву Мы поможем в написании ваших работ! ЗНАЕТЕ ЛИ ВЫ?
Влияние общества на человека
Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрации Практические работы по географии для 6 класса Организация работы процедурного кабинета Изменения в неживой природе осенью Уборка процедурного кабинета Сольфеджио. Все правила по сольфеджио Балочные системы. Определение реакций опор и моментов защемления |
Безтигельная зонная плавка кремнияСодержание книги
Похожие статьи вашей тематики
Поиск на нашем сайте
Обработка кремния похожа на обработку германия, но сопряжена с большими технологическими трудностями, так как температура плавления кремния значительно выше температуры плавления германия и близка к температуре размягчения кварцевого стекла; трубы из такого стекла применяют при операциях зонной плавки и очистки. Кроме того следует помнить, что кремний реагирует с углеродом, а потому зонную плавку его ведут без графитовых лодочек, при вертикально расположенных образцах (рис.10). При зонной плавке нижняя часть образца не отрывается от верхней вследствие большого поверхностного натяжения жидкого кремния. Рис.4.14. Схема бестигельной зонной плавки у кремния 1-держатель слитка, 2- слиток кремния, 3 – расплавленная зона, 4 передвигающийся виток контура высокочастотного генератора
Гарниссажный метод Чохральского При использовании этого метода расплавленную зону с помощью электронно-лучевого в глубоком вакууме. В результате получают слитки с большой однородностью и малым содержанием кислорода. Однако такой кремний имеет большую плотность примесей.
Свойства кремния Кристаллический кремний - темно-серое твердое и хрупкое вещество с металлическим блеском, химически довольно инертное. Как и германий, он кристаллизуются в сложную кубическую пространственную решетку типа алмаза, в которой все атомы расположены на одинаковом расстоянии друг от друга. На внешней валентной оболочке атома кремния расположены четыре электрона. Основной параметр полупроводниковых приборов - ширина запретной зоны при температуре 20°С W= 1,12 эВ. Это позволяет создавать кремниевые полупроводниковые приборы с относительно высокой рабочей температурой (до 125°С). Верхний температурный предел работы кремниевых приборов достигает 200 °С. Концентрация собственных носителей зарядов при комнатной температуре ni = 3×1016 м-3. Удельное электрическое сопротивление кремния с собственной электропроводностью = 2,3×103 Ом-м, резко уменьшается при увеличении концентрации примесей. При низких температурах (Т < 6,7 К) и высоких давлениях (Р > 12 ГПа) кремний переходит в сверхпроводящее состояние, т. е. удельное электрическое сопротивление кремния уменьшается до нуля. При использовании монокристаллического кремния в полупроводниковом производстве имеют место большие потери этого материала. Это связано с тем, что большинство полупроводниковых приборов основано на процессах, происходящих в очень узких граничных или поверхностных слоях полупроводника. Остальной объем монокристалла является паразитной частью и чаще всего ухудшает параметры прибора. Большая часть материала теряется при механической обработке слитков (резке на пластины, шлифовке, полировке и т.д.). С целью уменьшения этих потерь в полупроводниковом производстве применяют кремний в виде монокристаллических тонких слоев, которые осаждают на объемные монокристаллы, которые называют подложками. Такие монокристаллические слои, сохраняющие кристаллографическую ориентацию подложки, называют эпитаксиалъными. В качестве подложек используют монокристаллы кремния, сапфира, корунд и др. В зависимости от характера влияния на тип электропроводности примеси делят на нейтральные, донорные, акцепторные и создающие в запретной зоне кремния глубокие энергетические уровни. К нейтральным примесям кремния относят водород, азот, инертные газы, а также элементы IV группы Периодической системы химических элементов Д.И.Менделеева (германий, олово, свинец). Основными донорными примесями являются элементы V группы Периодической системы химических элементов Д.И.Менделеева (фосфор, мышьяк, сурьма, висмут). В качестве акцепторной примеси для кремния в основном используют элементы III группы Периодической системы химических элементов Д.И.Менделеева (бор, алюминий). Элементы I,II,VI,VII гpyпп создают в запретной зоне кремния глубокие энергетические уровни и могут быть донорами и акцепторами. В качестве таких примесей чаще всего применяют золото и цинк. При легировании золотом в кремнии образуются дополнительные центры рекомбинации носителей заряда, что уменьшает время жизни неравновесных носителей заряда. Легирование кремния производят в процессе получения объемных монокристаллов и эпитаксиальных пленок. Взаимодействие кремния с другими материалами зависит от температуры. Кристаллический кремний при низких температурах химически инертен, при комнатной температуре он химически устойчив. При нагревании до температуры 200...700 °С он соединяется с галогенами, образуя галогениды кремния (SiQ4, SiJ4, SiBr4, SiF и др.). На воздухе при нагревании до температуры 900 °С кремний устойчив, выше температуры 900 °С он интенсивно окисляется с образованием двуокиси кремния. При температуре 1100...1300°С кремний взаимодействует с азотом, образуя нитрид кремния Si3N4, и углеродом, образуя карбид кремния SiC.
ДИЭЛЕКТРИКИ
Основным, характерным для любого диэлектрика процессом, возникающим при воздействии на него электрического напряжения, является поляризация — ограниченное смещение связанных зарядов или ориентация дипольных молекул. О явлениях, обусловленных поляризацией диэлектрика, можно судить по значению диэлектрической проницаемости, а также угла диэлектрических потерь, если поляризация диэлектрика сопровождается рассеянием энергии, вызывающим нагрев диэлектрика. В нагреве технического диэлектрика могут участвовать содержащиеся в нем немногочисленные свободные заряды, обусловливающие возникновение под воздействием электрического напряжения малого сквозного тока, проходящего через толщу диэлектрика и по его поверхности. Наличие сквозного тока объясняется явление электропроводности технического диэлектрика, численно характеризуемой значениями удельной объемной электрической проводимости и удельной поверхностной электрической проводимости, являющимися обратными соответствующим значениям удельных объемного и поверхностного электрических сопротивлений. Любой диэлектрик может быть использован только при напряжениях, не превышающих предельных значений, характерных для него в определенных условиях. При напряжениях выше этих предельных значений наступает пробой диэлектрика — полная потеря им диэлектрических свойств. Значение напряжения, при котором происходит пробой диэлектрика, называется пробивным напряжением, а соответствующее значение напряженности внешнего однородного электрического поля — электрической прочностью диэлектрика.
|
||||
Последнее изменение этой страницы: 2016-04-08; просмотров: 590; Нарушение авторского права страницы; Мы поможем в написании вашей работы! infopedia.su Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Обратная связь - 18.119.162.59 (0.011 с.) |