Заглавная страница Избранные статьи Случайная статья Познавательные статьи Новые добавления Обратная связь FAQ Написать работу КАТЕГОРИИ: АрхеологияБиология Генетика География Информатика История Логика Маркетинг Математика Менеджмент Механика Педагогика Религия Социология Технологии Физика Философия Финансы Химия Экология ТОП 10 на сайте Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрацииТехника нижней прямой подачи мяча. Франко-прусская война (причины и последствия) Организация работы процедурного кабинета Смысловое и механическое запоминание, их место и роль в усвоении знаний Коммуникативные барьеры и пути их преодоления Обработка изделий медицинского назначения многократного применения Образцы текста публицистического стиля Четыре типа изменения баланса Задачи с ответами для Всероссийской олимпиады по праву Мы поможем в написании ваших работ! ЗНАЕТЕ ЛИ ВЫ?
Влияние общества на человека
Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрации Практические работы по географии для 6 класса Организация работы процедурного кабинета Изменения в неживой природе осенью Уборка процедурного кабинета Сольфеджио. Все правила по сольфеджио Балочные системы. Определение реакций опор и моментов защемления |
Р–n перехід і його вольт–амперна характеристикаСодержание книги Поиск на нашем сайте
Границя контакту двох напівпровідників, один з яких має електронну, а інший діркову провідність, називається електронно–дірковим переходом (або p–n переходом) (рис. 6.9). Ці переходи мають велике практичне значення, будучи основою роботи багатьох напівпровідникових приладів. Одним із поширених методів виготовлення p–n переходів є метод сплавлення. Наприклад, кристал германію n - типу сплавляють з „таблеткою” індію, яка покладена на нього, при температурі 500 – 600° С в атмосфері аргону. При цьому індій розплавляється і розчиняє в собі германій. Розглянемо фізичні процеси, що відбуваються в p–n – переході. Будемо вважати, що концентрація донорів і концентрація акцепторів однакові. Для n– області основними носіями струму є електрони і при не дуже низьких температурах концентрація електронів в n– області практично дорівнює концентрації донорних атомів – . В p– області основні носії – дірки, і концентрація дірок в цій області дорівнює концентрації акцепторних атомів – . Крім основних носіїв, ці області містять неосновні носії: n – область – дірки , p– область – електрони . Розрахунок показує, що концентрація у разів більша за в n– області, а концентрація в разів більша за концентрацію електронів p – області. Відмінність у концентрації однотипних носіїв в контактуючих областях напівпровідника приводить до виникнення дифузійних потоків електронів з n – області в p – область і дифузійного потоку дірок із p – області в n – область . Область n, із якої дифундували електрони, заряджається позитивно, а p – область, із якої дифундували дірки – негативно (рис. 6.9). Перетікання електронів справа наліво і дірок зліва направо відбувається доти, доки потік електронів із n– області в p– область зрівноважується потоком електронів із p – області в n– область , а потік електронів із p – області в n – область зрівноважується потоком дірок із n– області в p– область: ; . Позначимо густини струмів, що відповідають потоку через ; потоку – ; потоку – ; потоку – . В рівноважному стані , . Додаючи ліві і праві сторони цих рівностей, отримуємо . Густина повного струму через рівноважний p - n - перехід . В n –області напівпровідника внаслідок переходу електронів поблизу границі залишається нескомпенсований позитивний об’ємний заряд нерухомих іонізованих донорних атомів. У p– області напівпровідника, внаслідок переходу дірок, поблизу границі утворюється від'ємний об'ємний заряд нерухомих іонізованих акцепторів. Ці об’ємні заряди утворюють біля границі подвійний електричний шар, який характеризується контактною різницею потенціалів , що не дозволяє подальший перехід електронів у напрямку і дірок у напрямку . Прикладемо до p–n– переходу, що знаходиться в рівновазі, зовнішнє електричне поле, яке напрямлене протилежно до поля контактного шару, підключивши до p– області позитивний полюс джерела напруги, а до n– області – негативний (рис. 6.10). Це поле, напрямок якого називається прямим, викликає пониження потенціального бар’єра для основних носіїв , (6.4) де – зовнішня різниця потенціалів. Тому потік електронів із n – області в p – область і потік дірок із p у n– область збільшаться в разів, що приведе до збільшення в разів густини струмів основних носіїв і . Густини ж неосновних носіїв струму і залишаються незмінними. Тоді, густина повного струму при прямому включенні переходу дорівнює [1] , (6.5) де - густина струму насичення. Цей струм називається прямим. Прикладемо до p–n– переходу зовнішнє електричне поле, яке напрямлене від n – провідника до p– провідника, тобто поле, яке співпадає з полем контактного шару (рис. 6.11). Плюсовий полюс джерела струму підключений до n– області, а мінус – до p – області. Під дією різниці потенціалів зовнішнього поля, напрямок якого називається зворотнім, розширюється запірний шар і потенціальний бар’єр р–п– переходу становить , що викличе зменшення в разів потоку основних носіїв і та густини струмів і , що відповідають цим потокам. Зміна висоти бар’єра не змінить потоків електронів і дірок . В кінцевому результаті густина повного струму через р–п– перехід дорівнює: . Цей струм називається зворотним. Об’єднуючи вирази і , отримуємо . (6.6) Це співвідношення є рівнянням вольт–амперної характеристики р–п– переходу. P–n– перехід практично має односторонню провідність. Вольт–амперна характеристика p–n– переходу має вигляд, зображений на рис. 6.12.
|
|||||||
Последнее изменение этой страницы: 2016-08-26; просмотров: 459; Нарушение авторского права страницы; Мы поможем в написании вашей работы! infopedia.su Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Обратная связь - 3.144.123.24 (0.008 с.) |