Заглавная страница Избранные статьи Случайная статья Познавательные статьи Новые добавления Обратная связь КАТЕГОРИИ: АрхеологияБиология Генетика География Информатика История Логика Маркетинг Математика Менеджмент Механика Педагогика Религия Социология Технологии Физика Философия Финансы Химия Экология ТОП 10 на сайте Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрацииТехника нижней прямой подачи мяча. Франко-прусская война (причины и последствия) Организация работы процедурного кабинета Смысловое и механическое запоминание, их место и роль в усвоении знаний Коммуникативные барьеры и пути их преодоления Обработка изделий медицинского назначения многократного применения Образцы текста публицистического стиля Четыре типа изменения баланса Задачи с ответами для Всероссийской олимпиады по праву Мы поможем в написании ваших работ! ЗНАЕТЕ ЛИ ВЫ?
Влияние общества на человека
Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрации Практические работы по географии для 6 класса Организация работы процедурного кабинета Изменения в неживой природе осенью Уборка процедурного кабинета Сольфеджио. Все правила по сольфеджио Балочные системы. Определение реакций опор и моментов защемления |
Последовательность расчета параметров интегральных резисторов. ⇐ ПредыдущаяСтр 4 из 4
Параметры, которые определяют сопротивление интегрального резистора, можно разделить на две группы: 1) параметры полупроводникового слоя: толщина W; характер распределения примеси по глубине N(x); зависимость подвижности носителей заряда от концентрации m(N); 2) топологические параметры: длина резистора l; ширина резистора b. Первая группа параметров оптимизируется для получения наилучших результатов интегральных транзисторов. Именно для этого расчет транзисторов производится в первую очередь. Таким образом, задача расчета резистора сводится к выбору полупроводникового слоя, в котором будет создаваться резистор, и формы контактов и вычисления длины и ширины. Воспроизводимость номинальных значений сопротивления обычно равна 15-20% и зависит от ширины резистора. Так, при возрастании ширины от 7 до 25 мкм точность воспроизведения номинала возрастает с ±15 до ±18%. 5.1 Диффузионные резисторы на основе базовой области. Резисторы данного типа приобрели наибольшее распространение, так как при их использовании достигается объединение высокого удельного сопротивления, что необходимо для уменьшения площади, которую занимает резистор, и сравнительно небольшого температурного коэффициента ТКR (±(0,5…3)·10-3 1/°С). 5.2. Исходные данные для расчета топологических параметров полупроводниковых резисторов. Для расчета длины и ширины резисторов необходимы следующие входные данные: 1) номинальные значения сопротивлений R, заданные в принципиальной схеме. R1- R4 – 4700 Ом; R5 – 3300 Ом. 2) допустимая погрешность D R. Исходя из технологических возможностей оборудования выберем DR = 20% 3) рабочий диапазон температур (Tmin, Tmax). Исходя из предположения, что разрабатываемая ИМС будет предназначена для эксплуатации в климатических условиях, характерных для широты Украины, выберем диапазон температур, определяемый климатическим исполнением УХЛ 3.0 (аппаратура, предназначенная для эксплуатации в умеренном и холодном климате, в закрытых помещениях без искусственно регулируемых климатических условий). Исходя из этого: Tmin = -60 °С; Tmax = +40 °С. 4) средняя мощность Р, которая рассеивается на резисторах. Мощность, рассеиваемая на резисторах, будет расчитана на основе измерянных ранее токов через резисторы, используя закон Ома.
где I – ток через резистор, А; R – сопротивление резистора, Ом. Измерянные значения токов несколько увеличим для учета возможных скачков входных токов схемы: Табл. 6.1 Расчет мощностей резисторов
5.3. Последовательность расчета топологических параметров параметров полупроводниковых резисторов. Для расчета параметров интегральных резисторов используется написанная для этих целей программа, значения рассчитанных параметров, приведенные ниже, расчитаны с ее помощью. 1. Выбираем тип резистора, исходя из его номинального сопротивления. В расчитываемой схеме все резисторы целесообразно изготовить дифузионными, сформированными в базовом р-слое. 2. Расчитываем удельное поверхностное сопротивление:
где Na0 – концентрация акцепторов у поверхности базы, см-3 ; N – концентрация акцепторов в базе, см-3 ; Nдк – концентрация доноров в коллекторном слое, см-3 ; q – единичный заряд, Кл; m - подвижность носителей заряда, см2/В·с; W – глубина коллекторного p-n перехода, мкм; Для расчета принимаем Na0 = 8*1018 см-3 ; Nдк = 1016 см-3 ; значения интегралов расчитываются численными методами на основе существующих зависимостей подвижности носителей от их концентрации. В результате rS = 222,81 Ом/. Типичное значение поверхностного сопротивления базовой области - 200 Ом/, расчитанное значение показывает приемлемость использования выбранных концентраций. 3. Рассчитываем коэффициент формы резисторов и его относительную погрешность:
где DrS/rS – относительная погрешность воспроизведения удельного поверхностного сопротивления легированного слоя, которая вызвана особенностями технологического процесса, для расчета примем ее равной 0,05; ТКR – температурный коэффициент сопротивления базового слоя, он равен 0,003 1/°С. Результаты расчета следующие:
4. Рассчитаем минимальную ширину резистора bточн, которая обеспечит заданную погрешность геометрических размеров:
где Db – погрешность ширины резистора; Dl – погрешность длины резистора В нашем случае
5. Определяем минимальную ширину резистора bP, которая обеспечит заданную мощность Р:
где Р0 – максимально допустимая мощность рассеяния для всех ИМС, для полупроводниковых ИМС Р0 = 4,5 Вт/мм2. В нашем случае
6. Расчетное значение ширины резистора определяется максимальным из расчитанных значений:
bрасч = max{ bP, bточн }
Расчеты b для R1 - R4 дают значение ширины резистора меньше технологически возможной (5 мкм), поэтому для последующих расчетов принимаем bрасч = 5 мкм 7. С учетом растравливания окон в маскирующем окисле и боковой диффузии ширина резистора на фотошаблоне должна быть несколько меньше расчетной:
Dтрав – погрешность растравливания маскирующего окисла, Dу – погрешность боковой диффузии для расчета примем Dтрав = 0,3; Dу = 0,6 тогда
8. Выберем расстояние координатной сетки h для черчения равным 1 мм и масштаб чертежа 500:1, тогда расстояние координатной сетки на шаблоне
мкм. 9. Определяем топологическую ширину резистора bтоп. За bтоп принимают значение большее или равное bпром значение, кратное расстоянию координатной сетки фотошаблона. В нашем случае
10. Выбираем тип контактных площадок резистора. Исходя из расчитанной топологической ширины выбираем для R1 - R4 площадку, изображенную на рис.1а, для R5 – на рис. 1б.
11. Находим реальную ширину резистора на кристалле, учитывая погрешности, вызванные растравливанием окисла и боковой диффузией:
В нашем случае:
12. Определяем расчетную длину резистора:
где Nизг – количество изгибов резистора на 90°; k1, k2 – поправочные коэффициенты, которые учитывают сопротивление околоконтактных областей резистора при разных конструкциях этих областей; n1, n2 – количество околоконтактных областей каждого типа. В нашем случае
13. Расчитаем длину резистора на фотошаблоне, учитывая растравливание окисла и боковую диффузию:
в нашем случае
14. За топологическую длину резистора lтоп берем ближайшее к lтоп значение, кратное расстоянию координатной сетки на фотошаблоне. В нашем случае
15. Расчитываем реальную длину резистора на кристалле:
16. Определяем сопротивление рассчитанного резистора
В нашем случае
Погрешность расчета:
В нашем случае
Результаты расчета вполне удовлетворяют заданной погрешности.
|
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Последнее изменение этой страницы: 2019-10-15; просмотров: 269; Нарушение авторского права страницы; Мы поможем в написании вашей работы! infopedia.su Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Обратная связь - 3.135.200.211 (0.021 с.) |