Заглавная страница Избранные статьи Случайная статья Познавательные статьи Новые добавления Обратная связь FAQ Написать работу КАТЕГОРИИ: АрхеологияБиология Генетика География Информатика История Логика Маркетинг Математика Менеджмент Механика Педагогика Религия Социология Технологии Физика Философия Финансы Химия Экология ТОП 10 на сайте Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрацииТехника нижней прямой подачи мяча. Франко-прусская война (причины и последствия) Организация работы процедурного кабинета Смысловое и механическое запоминание, их место и роль в усвоении знаний Коммуникативные барьеры и пути их преодоления Обработка изделий медицинского назначения многократного применения Образцы текста публицистического стиля Четыре типа изменения баланса Задачи с ответами для Всероссийской олимпиады по праву Мы поможем в написании ваших работ! ЗНАЕТЕ ЛИ ВЫ?
Влияние общества на человека
Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрации Практические работы по географии для 6 класса Организация работы процедурного кабинета Изменения в неживой природе осенью Уборка процедурного кабинета Сольфеджио. Все правила по сольфеджио Балочные системы. Определение реакций опор и моментов защемления |
Рейтинговый контроль по курсу пто
Рейтинговый контроль по курсу ПТО Студент: Разакова АА Группа:МТ11-82Б Дата: 20 апреля 2020 Теоретическая часть Вопрос:Перечислите основные этапы (с пояснениями к ним) процесса разделениия полупроводниковых подложек на круглые диски-кристаллы. Какие материалы используются для маскирования подложек. В чем преимущества круглых полупроводниковых дисков-кристаллов по сравнению с прямоугольными. Ответ: 1) Наиболее перспективным для промышленного производства дисков-кристаллов из пакетированных пластин является метод маскирования и пескоструйной резки, позволяющей получить круглый диск-кристалл. Ниже перечислены основные этапы процесса: · Резка полимерной плёнки на плоттере · Наклеивание скотча (монтажной ленты) на полученный трафарет со стороны полимерной составляющей плёнки, последующее удаление бумажной основы плёнки (для доступа к слою акрилового клея); · наклейка трафарета на кремниевую полупроводниковую подложку слоем акрилового клея к подложке (предварительно подложка должна быть промаскирована сплошным слоем RMS-клея толщиной до 30 мкм по технологии склейки пластины со стеклянной подложкой); · удаление скотча вместе с перемычками трафарета между дисками, прокатка валиком маскирующих дисков на подложке; · сушка акрилового клея в соединении защитных дисков с подложкой в термической вакуумной камере под нагрузкой; · Абразивная резка. Резка происходит и после прорезки пластины для получения вертикальных краев кристаллов. · размывка подложки с дисками в растворителе (ацетоне) в течении 1 минуты и промывка в ионизированной воде с удалением защитной плёнки и акрилового клея с кристаллов; аналогичная повторная операция по отделению полупроводниковых кристаллов от стеклянной пластины; · контроль-сортировка кристаллов по размерам и дефектности формы.
2) В качестве маскирующего покрытия могут применяться Ацеталь полимеризат «Хостафен», Сталь АРМКО (Ст.12), ПВХ- пленка самоклеющаяся, колондированная и другие материалы. 3) Наличие прямых углов в контуре является причиной ухудшения характеристик диодов из-за концентрации в углах электрических зарядов. Оптимальная форма полупроводниковых элементов для современных диодов – круглый диск-кристалл, весьма удобный для последующей герметизации. Практическая часть Предложите и рассчитайте основные параметры ВЗУ (чашу и пружины привода) для детали, если требуется обеспечить производительность загрузки Q=90 . Заготовка - ось диаметром d3 = 6 мм и длиной l= 28 мм. Материал – Сталь 3. Масса 13 г. Ориентацию ** необходимо производить в процессе подачи их по лотку. Принимаем частоту колебаний лотка . 1. Определим требуемую скорость перемещения заготовок:
Принимаем коэффициент заполнения потока = 1.8. Так как ориентация заготовок осуществляется в процессе подачи их по лотку, часть заготовок будет возвращаться обратно в бункер. 2. Определим параметры чаши бункера:
Диаметр чаши D = ( Примем D =500 мм по ГОСТ 20795-75. Шаг спирали = , где =2 мм – толщина стенки дорожки. Примем Высота чашки Ширина лотка до бортика Ширина лотка с бортиком Лоток имеет наклон к центру бункера для того, чтобы заготовка перемещалась в один *** 3. Определим угол подъема лотка:
Так как угол подъема лотка лежит в пределах , то скорость перемещения может снижаться на 10-15%, следовательно,
4. Определим требуемый угол наклона подвесок:
5. Определим амплитуду колебаний лотка:
где n=1 – количество дорожек; = = =10000 1/c2. 6. Определим параметры пружины подвесок: Принятые параметры подвесок: число подвесок - , количество пластин в одной подвеске , ширина подвески , длина подвески , вес колеблющихся частей и загруженных в бункер заготовок – G, принимаем ориентировочно равным G=15 кг. 7. Определим максимальное напряжение изгиба:
Где - амплитуда колебаний чаши. Таким образом, вибрационное загрузочное устройство должно иметь следующие параметры: 1. Размеры чаши: Внутренний диаметр чаши - D = 500 мм Шаг спирали - Высота чаши - 2. Угол подъема лотка - 3. Угол наклона подвесок - 4. Максимальная амплитуда колебаний лотка - 5. Размеры пружин подвесок: Рабочая длина - Ширина - ; Толщина -
|
||||
Последнее изменение этой страницы: 2024-06-17; просмотров: 6; Нарушение авторского права страницы; Мы поможем в написании вашей работы! infopedia.su Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Обратная связь - 18.116.12.7 (0.006 с.) |