Заглавная страница Избранные статьи Случайная статья Познавательные статьи Новые добавления Обратная связь FAQ Написать работу КАТЕГОРИИ: АрхеологияБиология Генетика География Информатика История Логика Маркетинг Математика Менеджмент Механика Педагогика Религия Социология Технологии Физика Философия Финансы Химия Экология ТОП 10 на сайте Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрацииТехника нижней прямой подачи мяча. Франко-прусская война (причины и последствия) Организация работы процедурного кабинета Смысловое и механическое запоминание, их место и роль в усвоении знаний Коммуникативные барьеры и пути их преодоления Обработка изделий медицинского назначения многократного применения Образцы текста публицистического стиля Четыре типа изменения баланса Задачи с ответами для Всероссийской олимпиады по праву Мы поможем в написании ваших работ! ЗНАЕТЕ ЛИ ВЫ?
Влияние общества на человека
Приготовление дезинфицирующих растворов различной концентрации Практические работы по географии для 6 класса Организация работы процедурного кабинета Изменения в неживой природе осенью Уборка процедурного кабинета Сольфеджио. Все правила по сольфеджио Балочные системы. Определение реакций опор и моментов защемления |
Основные расчетные соотношения и данные для элементов гибридных интегральных микросхем.↑ ⇐ ПредыдущаяСтр 9 из 9 Содержание книги
Поиск на нашем сайте
Резисторы Сопротивление R проводника определяется из уравнения: где l,b,d – соответственно длина, ширина, толщина проводника, а r - удельное электросопротивление (омы на метр). Удельное поверхностное сопротивление Rп принято выражать в ом/квадр.ат. Резисторы могут быть получены методом диффузии примеси (диффузионные резисторы). По известной ширине резистора можно рассчитать его длину для получения резистора с заданным полным сопротивлением. R= Rп*l/b Основные характеристики материалов, применяемых для резистивных пленок, приведены в табл. 5.3. Таблица 5.3. Основные характеристики резистивных пленок.
Примечание. Символами dRдр. и dRхр обозначены изменения сопротивления резисторов соответственно при нагрузке и хранении. ТКС- температурный коэффициент сопротивления КТР- коэффициент термического расширения Pд- допустимая удельная мощность рассеяния энергии на резисторе и определяется следующим соотношением: где - температура перегрева резистора tp относительно температуры корпуса tk микросхемы; SR – площадь резистора в мм2; Rт.п. – тепловое сопротивление системы подложка-корпус (в основном это подложка). Конденсаторы Емкость конденсатора определяется по формуле где e - диэлектрическая постоянная; N – число обкладок; S – площадь перекрытия обкладок, см2; d – толщина диэлектрической пленки, см. Рабочее напряжение выбирается в 3-4 раза меньшим, по сравнению с пробивным напряжением диэлектрика. Исходя из этого, толщина диэлектрической пленки: где k = 3¸4 – коэффициент запаса электрической прочности конденсатора. При расчете пленочных конденсаторов в области низких частот определяют площадь перекрытия диэлектрика обкладками (исходя из заданного значения емкости) по следующей формуле: Катушки индуктивности Наибольшее распространение получили катушки индуктивности в виде плоской спирали круговой или квадратной формы. Величину их индуктивности вычисляют по формулам: Для круговой спирали , где w - число витков; - полоса, занятая витками катушки; D1,D2 –диаметры внутреннего и внешнего витков соответственно. Для квадратной: где - полоса, занятая витками катушки; A1,A2 – длины сторон внутреннего и внешнего квадратов соответственно. Площадь подложки Значение площади подложки можно получить, исходя из принципиальной электрической схемы. Определив площадь одного резистора SR как отношение его мощности, заданной электросхемой, к допустимой Pд вычисляют суммарную площадь где n- количество резисторов; Pi – мощность i-того резистора. Суммарная площадь конденсаторов в первом приближении где m-число пленочных конденсаторов; - толщина диэлектрика, определяемая как отношение учетверенного рабочего напряжения конденсатора к пробивной прочности диэлектрика. Учет площадей, необходимых для контактных площадок, коммутационных дорожек, межэлементных промежутков и навесных элементов можно произвести введением коэффициента заполнения Кз. Тогда площадь подложки: Для большинства гибридных микросхем Кз=2¸3.
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
Последнее изменение этой страницы: 2017-01-19; просмотров: 133; Нарушение авторского права страницы; Мы поможем в написании вашей работы! infopedia.su Все материалы представленные на сайте исключительно с целью ознакомления читателями и не преследуют коммерческих целей или нарушение авторских прав. Обратная связь - 18.226.28.97 (0.009 с.) |