Фотополимерные печатные формы

Пластины для изготовления флексографских печатных форм Пластина защищена посредством покровной пленки от механических повреждений и воздействия кислорода.

Однослойные печатные формы изготавливаются толщиной от 0,76 мм (например, для печати на пакетах, пленках, тонком картоне) до 6,35 мм (для печати на гофрокартоне, мешках из бумаги и пластике). При работе на этих пластинах используется линиатура до 60 лин/см.

Многослойные пластины предназначены для качественной растровой печати. Они комбинируют в своей структуре принцип относительно твердых тонкослойных пластин со сжимаемой основой. Подложка сама образует сжимаемую основу для рельефного слоя и принимает на себя деформацию печати. Стабилизирующий слой обеспечивает почти полное отсутствие продольной деформации при монтаже на формный цилиндр.

Основу изготовления фотополимерных форм составляет процесс полимеризации, который начинается под воздействием коротковолнового УФ излучения. При полимеризации из многочисленных отдельных частиц, так называемых мономеров, образуются длинные цепочки, полимеры. Сырьем является эластомерное связующее вещество, которое восприимчево к УФ лучам. В процессе полимеризации первоначальные физические свойства сырья так изменяются, что вещество становится нерастворимым в воде.

Существуют две системы производства форм: твердые и жидкие

.

Твердая система Solid

Производство рельефной формы разделяется на шесть ступеней, четыре из которых осуществляются посредством экспонирования:

1. Экспонирование оборотной стороны

2. Основное экспонирование (экспонирование изображения)

3. Вымывание

4. Сушка

5. Дополнительная обработка светом

6. Дополнительное экспонирование

Экспонирование оборотной стороны является первой ступенью производства печатных форм. Это равномерное экспонирование поверхности формы через пленку-основу без вакуума и негатива. Обеспечивается сцепление между полиэфирной основой и полимерным слоем, создается основание рельефа и одновременно обеспечивается чистая поверхность. При экспонировании оборотной стороны основание рельефа укрепляется, а глубина рельефа уменьшается. Экспонирование оборотной стороны должно иметь такую продолжительность, чтобы полностью полимеризовалось необходимое основание рельефа.

Основное экспонирование является второй ступенью обработки при производстве фотополимерных форм и должно проводиться сразу же после экспонирования оборотной стороны. Задачей основного экспонирования является создание рельефа для печатного процесса и скрепление печатающих элементов с основанием рельефа, образованным при экспонировании оборотной стороны. Во время основного экспонирования посредством полимеризации мономеров создается рельеф. При этом на поверхности формы возникает изображение.

В противоположность экспонированию оборотной стороны основное экспонирование проводится с лицевой стороны через негатив. Негатив после удаления защитной пленки фиксируется вакуумом на поверхности формы. Негатив укладывается на пластину матовой стороной с эмульсией и прижимается к ней с помощью вакуума. Полимеризация начинается на поверхности пластины и с увеличением экспонирования проникает в глубину. При этом очень важно, чтобы по окончании экспонирования отдельные печатающие элементы были прочно соединены с основанием рельефа.

Между рельефом и основанием, образовавшимся после предварительного экспонирования, не должно быть неполимеризованных участков.

Вымывание. Во время процесса вымывания неполимеризованный фотополимер растворяется и удаляется с формы. Остается полимеризованное рельефное изображение. Целесообразно проводить вымывание формы непосредственно после основного экспонирования. Экспонированная форма слоем вверх натягивается на барабан устройства для вымывания. Продолжительность вымывания зависит от: состава вымывного раствора, температуры вымывного раствора, используемого типа пластин.

Сушка. После процесса вымывания формы сушатся нагретым воздухом в сушильном устройстве. Сушка оказывает существенное влияние на качество формы. Поэтому следует учитывать следующее:

- следить за соблюдением температуры. Температура не должна быть выше 65 градусов

- продолжительность сушки зависит от используемого растворителя и толщины формы.

- перед отделкой формы ее необходимо охладить

Во время процесса вымывания форма впитывает вымывной раствор, рельефное изображение размягчается и набухает. Средняя продолжительность нахождения в сушильном устройстве зависит от набухания формы и от используемого вымывного раствора и составляет от 2 до 3 часов. После сушки поверхность формы остается немного липкой, поэтому формы нельзя складывать в стапель. Формы в это время особенно восприимчивы к грязи, дневному свету. Свою липкость они теряют только после дополнительной обработки.

Дополнительная обработка Различают химическую и световую дополнительную обработку. Химическая обработка в настоящее время практически не применяется. Поэтому производится дополнительная обработка только УФ светом. Продолжительность дополнительной обработки зависит от количества остатков растворителя, которые находятся в материале и после сушки. Рекомендуется производить дополнительную обработку сразу после сушки. УФ излучение, необходимое для дополнительной обработки светом, опасно для человека. Даже кратковременное воздействие может вызвать ожоги на коже, поэтому во время дополнительной обработки устройство должно быть закрыто. Готовая высушенная форма обрабатывается в течение 4 минут, а затем проверяется ее липкость. Этот процесс следует повторять по 1-2 мин до тех пор, пока липкость не будет утрачена. Необходимая продолжительность зависит от типа материала, типа вымывного раствора, продолжительности сушки.

Дополнительное экспонирование Заключительное экспонирование необходимо для того, чтобы обеспечить полимеризацию и сшивание всех неэкспонированных мономеров формы. При неполном сшивании мономеров не может быть обеспечен достаточный срок службы формы. Завершающее экспонирование повышает сопротивляемость формы к растворителям красок и чистящих средств. Оно придает форме окончательную прочность. Оно проводится в обычных экспонирующих устройствах с передней стороны без негатива и вакуума. Продолжительность экспонирования 10-15 минут.