Измерение фокальных отрезков

 

Измерение проводится с помощью микроскопа на оптической скамье (рис.5.10).

Рис. 5.10

При измерении фокальных отрезков микроскоп фокусируется на изображении сетки, находящейся в фокусе коллиматора, и снимают а₁. Затем наводят микроскоп на вершину поверхности линзы и снимают а₂.

(36)

Увеличение микроскопа должно быть (30-40)^х. При измерении отрицательных оптических систем микроскоп заменяют зрительной трубой с положительной насадкой.

ИЗМЕРЕНИЕ РАБОЧИХ ОТРЕЗКОВ

 

Рабочий отрезок – это расстояние от плоскости наилучшего изображения до опорного кольца оптической системы.

Знание величины отрезка необходимо для совмещения системы с регистрирующим устройством.

Для измерения применяются методы:

1. Визуальный.

2. Фотографический.

3. Интерференционный.

4. Фотоэлектрический.

Визуальный метод измерения

 

На рис. 5.11 приведена схема установки.

Рис.5. 11

Методика измерения:

1. Находят положение, соответствующее фокусу объектива с помощью микроскопа М1 по наилучшему изображению марки коллиматора и снимают отсчет по шкале Шк с помощью микроскопа М2(положение а₁).

2. Снимают исследуемый объектив и ставят стеклянную пластину со штрихами.

3. Находят четкое изображение штрихов пластины с помощью микроскопа М1 и снимают отсчет а₂ с помощью микроскопа М2.

(37)

Данному методу измерения присущи следующие погрешности:

- фокусировки; - установки; - шкалы; - отсчета.

 

Фотографический метод

На рис. 5.12 приведена схема установки.

Рис. 5.12

Данный метод основан на фиксации положения плоскости изображения по наилучшей резкости на фотоэмульсионной пластине. Фотографируя миру при различных S_PK (к=1,2,…) находят такое положение, при котором изображение на пленке получается наиболее резко, т.е. находят максимум разрешающей способности объектива. Это положение – S’_P’. Шаг перемещения 0,02 мм.

Интерференционный метод

 

Метод основан на сравнении рабочих отрезков эталонного и исследуемого объективов с помощью интерферометра Тваймана – Грина.

На рис. 5.13 приведена схема установки и интерференционные картины при разных рабочих отрезках.

Рис.5.13

Метод, разработанный Коломициным А.Ф., позволяет осуществлять измерения с точностью 10-20 мкм.

 

Фотоэлектрический метод

Фотоэлектрический метод основан на измерении освещенностей с помощью двух фотоприемников, установленных до и после фокальной плоскости на одинаковом малом расстоянии. Этот метод применяется для непосредственного измерения или сравнение с эталоном. Точность – 10 мкм. На рис. 5.14 приведена схема установки. Схема аналогична фотографическому методу. Этот метод наиболее производителен и не уступает интерференционному по точности.

Рис. 5.14. Принципиальная схема установки